Skär rullen av fotoresist lämplig pjäs:
Fotoresist rulle består av tre skikt. Tunt glansigt lavsanovaja film fotoresist själv, och något ogenomskinlig plastfilm. Polyeten sträckor, polyester - nej. Du måste ta bort skydds plastfolie och lägg i fotoresisten Vävlaminat:
Sedan håller filmen mellan lager av PCB papper i ett kuvert, skicka det i en smörgås laminator:
Försök att använda järnet misslyckades, fotoresist flög, puzыrylsya på platser överhettning. Laminator ger bara reproducerbara kvalitet.
Om du spraya bara tillgängliga fotoresist, sedan tillämpa den enligt anvisningarna, och efter torkning, gå vidare till steg 2.
Steg 2. Exponering och manifestation
Filmen ska skriva ut fotomask. Vi negativ fotoresist, så manifestationen försvinna nezasvicheni område. Poyhraytes skrivarin att fotomask ut mest tät. Om det lossnade, då exponeringen kan kombinera två fotomask. En avgörande roll spelas av kontrastfotomask.
Ytterligare exponering. Fotomask tryckte plexiglas och markera ultraviolett lampa. Du måste skapa tillbehör som bilden, avståndet har alltid varit stabil, då resultatet är stabil. För mina enheter och min lampa som en följd av tekniska prover påträffades exponeringstid. 90-105 sekunder för en enda lager fotomask, och 135-150 sekunder om de två filmerna. För stora styrelser behöver enhetlig belysning, då skulle behöva ändra avståndet eller gör en speciell anordning. Vid anpassningen av foto, ram 100 * 80 gå utan problem. Då är det nödvändigt att hålla laddningen i mörker i 5-10 minuter. Om inte, då i steg visas i soda inte områden med tunna spår kan "hoppa".
Avslöjar en 5% lösning av soda. Manifestationen lösningen framställes företrädesvis i destillerat vatten:
I lösning nezasvichenyy fotoresist sväller och upplöses. Processen kan hjälpa vajande ljus avtorkning kyvetter eller pensel. Med borsten bör vara noga med att inte beröva tunna trådar. Fade tid är begränsad, om du ger styrelsen i lösningen ligger lång tid det kommer att flagna upplysta områden. Ett säkert tecken på rätt valda slutar exponering - en glansig yta belysta områden under normal upplösning nezasvichenyh. Om upplysta områden på manifestation bli matt, blivit lika apelsinskal - då du behöver öka exponeringstiden.
Manifestationen är komplett, har vi en utmärkt mask för etsning:
Steg 3. Ta bort masken Travlenye
Örter i lösligt järnklorid. Lösning tozhe zhelatelno förbereder att dystyllyrovannoy Voda Avto t TIME travlenyya inte Shell Film utvecklingsprocessen föroreningar vodoprovodnoy vatten. Razohretыy i mykrovolnovke till 60-90 grader travylnыy Lösning stravlyvaet Miedz i techenyy neskolku vidta på pokachyvanyy kyuvetы. Fotoresist i otlychyy från Lutay, tillåter oss att Kräv razohretыe rastvorы utan rädsla otslayvanyya Track. (Särskilt i sovremennыh skrivare för Energy Saving yspolzuetsya toner med mindre temperaturoy zakreplenyya)
Vыtravlennaya avgift:
För att ta bort masken skölj tillämpa en koncentrerad lösning av alkali. Inget behov av att suga, skölj bara:
Jag dränkts i varmt vatten i några minuter. Mask svälla och inringat själv:
Klar avgift:
Slutsats:
Teknik av fotoresist är mer avancerad än bytet, men inte en fullständig ersättning. Master Hittas nödvändig på grund av det faktum att det ofta är svårt att förvärva film fotoresist och andra material. Gå med bytet på fotoresist motiverad om du producerar kretskort ofta. Om du obmezhuyetesya 1 kort varje par månader köper sedan ytterligare utrustning, reagenser för dig att vara omotiverad.
Källa: licrym.org